特許
J-GLOBAL ID:200903068447563192

溶射方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大川 宏
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-328078
公開番号(公開出願番号):特開平8-176783
出願日: 1994年12月28日
公開日(公表日): 1996年07月09日
要約:
【要約】【目的】 アモルファス状態またはこれに近い微細構造を持つ溶射層を形成し、低摩擦係数でありながら極めて耐摩耗性が高い、摺動材料として優れた性質を持つ溶射層を形成することを目的とする。【構成】 溶射材料は、鉄、ニッケルおよびコバルトの少なくとも1種からなる第8属元素を含む第1成分と、タンタル、ニオブおよびバナジウムの少なくとも1種からなる第5a属元素を含む第2成分とからなり、該第1成分および該第2成分の組成比は、原子数比で2:8ないし8:2であり、溶射層中の該第1成分および該第2成分の分散程度は、隣接する該第1成分および該第2成分の層の平均厚さが最大で2μmである微細分散組織であることを特徴とする溶射方法。
請求項(抜粋):
基材の表面に被覆材粉末を溶射して該基材の表面に被覆層を形成する溶射方法であって、前記被覆材は、鉄、ニッケルおよびコバルトの少なくとも1種からなる第8属元素を含む第1成分と、タンタル、ニオブおよびバナジウムの少なくとも1種からなる第5a属元素を含む第2成分とからなり、該第1成分および該第2成分の組成比は、原子数比で2:8ないし8:2であり、該第1成分および該第2成分の分散程度は、隣接する該第1成分および該第2成分の層の平均厚さが最大で2μmである微細分散組織であることを特徴とする溶射方法。

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