特許
J-GLOBAL ID：200903068449282832
カラーフィルターの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
上田 章三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-258255
公開番号（公開出願番号）：特開平6-109916
出願日： 1992年09月28日
公開日（公表日）： 1994年04月22日
要約：
【要約】【目的】 設備及び工程が簡単でしかも色フィルター層内の未反応モノマーが完全重合された高品質のカラーフィルターの製造方法を提供すること。【構成】 画素間部位に遮光膜2が設けられたガラス基板1上に光重合性着色ワニスの被膜3を形成し、この着色ワニス被膜3上にポリビニルアルコール製の酸素遮断膜4を形成した後、フォトマスク5を介して画素パターン状の活性光線を照射し照射部位の着色ワニス被膜3を光重合させると共に、未露光部位の着色ワニス被膜3と酸素遮断膜4を現像液により除去して色フィルター層3’を形成する。次いで、上記色フィルター層3’を純水にて洗浄すると共にこの純水にてガラス基板1上に酸素遮断膜としての液体被膜6を形成し、この状態で超高圧水銀燈により活性光線をガラス基板1の上下両側から全面照射し色フィルター層3’内の未反応モノマーを完全重合させてカラーフィルターを製造することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
着色顔料、アニオン性ポリマー、アクリルモノマー、及び、光重合開始剤を主成分とする光重合性着色ワニスを透明基板上に塗布してその被膜を形成し、この着色ワニス被膜に対し酸素遮断の条件下において着色ワニス被膜側より画素パターン状の活性光線を照射して照射部位の着色ワニス被膜を光重合させると共に、未露光部位の着色ワニス被膜を現像処理により除去して色フィルター層を形成し、かつ、この現像処理と同時に又は現像処理後に上記着色ワニス被膜に対し活性光線を全面照射して色フィルター層内の未反応モノマーを完全重合させるカラーフィルターの製造方法において、画素パターン状に光重合された着色ワニス被膜上に酸素遮断性の液体被膜を形成し、この液体被膜が形成された着色ワニス被膜に対し上記活性光線の全面照射を行うことを特徴とするカラーフィルターの製造方法。
IPC (4件)：
G02B 5/20 101
, G03F 7/004 505
, G03F 7/004 511
, G03F 7/027
