特許
J-GLOBAL ID:200903068450967504

荷電粒子光学系におけるレンズのセンタリング方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 渡部 温
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-156538
公開番号(公開出願番号):特開平11-317184
出願日: 1998年04月30日
公開日(公表日): 1999年11月16日
要約:
【要約】リソグラフィシステムでのレンズの光軸を通した電子ビームのアライメントの改良方法に関する記述である。 ビームがレンズの中心通って僅かに傾き、複数の偏向器を用いて正方波によってレンズの中心の回りにビームが回転させられると、ビームの解像度はターゲット上を走査する時両方のトグル状態に対して測定される。僅かな傾き角を選んで両方のトグル状態で解像度が等しくなるようにする。この技法は試料の拡大像を見る観察装置を使うことはしなくて良い、TEMでの観察では必要だが。従って、この方法は例えば軸移動型のような光軸が移動させられたビームをアライメントする時も使用できる。
請求項(抜粋):
荷電粒子リソグラフィシステムの解像度の改良方法であって、該システムは少なくともひとつの、ターゲットを走査するビームの入射角を調整するためのアライメント偏向器を有し、該方法は次のステップを有する:(a) ビームをアライメントしてレンズの中心に入れてレンズの光軸との傾き角を僅かにする;(b) ビームアライメント用の2段偏向器によってビームをレンズの中心を軸として回転させる;(c) ビームでターゲットを走査しながらビームの解像度を測定する;(d) 正方波トグルを僅かな傾き角に加えて2つの状態のトグル角を作る;(e) 僅かな傾き角を調整して2つの正方波トグルでの解像度が同じになるようにする。
IPC (3件):
H01J 37/04 ,  G03F 7/20 505 ,  H01L 21/027
FI (3件):
H01J 37/04 B ,  G03F 7/20 505 ,  H01L 21/30 541 H

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