特許
J-GLOBAL ID：200903068451565507
プリント回路基板露光用フォトマスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
深見 久郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-187121
公開番号（公開出願番号）：特開平6-035167
出願日： 1992年07月14日
公開日（公表日）： 1994年02月10日
要約：
【要約】【目的】 スルーホールを備える基板の全表面にコーティングされた感光性レジストを露光するにあたり、基板の主面上での露光が過度になることを防止しながら、スルーホール内で十分な露光を可能にするためのプリント回路基板露光用フォトマスクを提供する。【構成】 フォトマスク19における紫外線を透過させる部分において、スルーホールに対応する領域13を透明としながら、基板の主面に対応する領域では、半透明のパターン膜18を形成し、それによって、透過率の互いに異なる領域を1つのフォトマスク19内において形成する。
請求項（抜粋）：
スルーホールを備えるプリント回路基板を得るため、感光性レジストが主面およびスルーホールの内周面上にコーティングされた基板に紫外線を照射する露光工程で、基板の所定領域が露光されるように用いられる、プリント回路基板露光用フォトマスクにおいて、紫外線を透過させる部分は、透過率の互いに異なる少なくとも2つの領域を有するとともに、前記主面に紫外線を照射する領域は、前記スルーホールの内周面に紫外線を照射する領域より透過率が相対的に低くされていることを特徴とする、プリント回路基板露光用フォトマスク。
IPC (3件)：
G03F 1/00
, H01L 21/027
, H05K 3/00
