特許

J-GLOBAL ID：200903068455066670

共役有機高分子膜の製造方法および共役有機高分子膜

発明者： 外山 弥 ,  辰浦 智 ,  吉村 徹三
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 石田 敬 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-253351
公開番号（公開出願番号）：特開平9-087849
出願日： 1995年09月29日
公開日（公表日）： 1997年03月31日
要約：

【要約】【課題】 2次元または3次元の共役系を有する共役有機高分子膜の製造方法およびそのような共役有機高分子膜を提供する。【解決手段】 蒸着重合プロセスにおいて、電子共役系を形成するような反応により有機高分子膜を形成するに当たり、原料分子の少なくとも1種として、3個以上の反応部位を有する分子を用い、有機高分子膜中に2次元的にまたは3次元的に広がった電子共役系を形成することを含む、共役有機高分子膜の製造方法およびそれにより得られる共役有機高分子膜。

請求項（抜粋）：

蒸着重合プロセスにおいて、電子共役系を形成するような反応により有機高分子膜を形成するに当たり、原料分子の少なくとも1種として、3個以上の反応部位を有する分子を用い、有機高分子膜中に2次元的にまたは3次元的に広がった電子共役系を形成することを含む、共役有機高分子膜の製造方法。

IPC (4件)：

C23C 16/44 ,  C08G 12/26 NCV ,  C08G 73/08 NTT ,  G02F 1/35 504

FI (4件)：

C23C 16/44 A ,  C08G 12/26 NCV ,  C08G 73/08 NTT ,  G02F 1/35 504