線型固体スイッチ素子とその製造方法、および前記線型固体スイッチ素子を画素選択手段として用いた平面表示素子

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：武顕次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-012945
公開番号（公開出願番号）：特開平9-203910
出願日： 1996年01月29日
公開日（公表日）： 1997年08月05日
要約：

【要約】【課題】構造が単純で製造が簡単な線型固体スイッチ素子と、その製造方法およびこの線型固体スイッチ素子を画素選択手段として用いた大型かつ高精細のアクティブ・アドレッシング型平面表示素子を得る。【解決手段】金属の細線1上にアクティブスイッチ素子の構成に必要とする絶縁膜2、a-Si膜3、N(+)a-Si膜4、金属膜5等を形成し、その多層膜を加工してチャネル部等を形成して線型の固体構造でアクティブスイッチ素子を形成する。上記金属の細線(金属線)1をゲート線とし、ゲートバスラインにアクティブスイッチ素子が1ライン分ぶら下がった1本の線(ゲートスイッチ線)をマイクロメカニカルな1部品とした線型固体スイッチ素子を平面表示素子の画素選択手段に用いる。

請求項（抜粋）：

金属線の全表面に形成した絶縁層と、前記絶縁層の上に成膜した1または複数の半導体層と、前記金属線の長手方向に沿って複数に区分した導体層からなる複数の電界効果型トランジスタ列から構成したことを特徴とする線型固体スイッチ素子。

IPC (2件)：

G02F 1/136 500 , G02F 1/1343

FI (2件)：

G02F 1/136 500 , G02F 1/1343

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開昭52-109204
特開昭60-088603
特開昭60-064002

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