特許
J-GLOBAL ID：200903068488779299
クラスタ型ホトリソグラフィシステム
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小橋 一男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-165361
公開番号（公開出願番号）：特開平7-169678
出願日： 1994年07月18日
公開日（公表日）： 1995年07月04日
要約：
【要約】【目的】 ウエハのコーティング及び/又は現像を行なうための極めて小型でコスト効率的なホトリソグラフィシステム及び方法を提供する。【構成】 基板ホトリソグラフィシステムは、固定点周りを回動し且つホトレジストコーティングユニットと、現像ユニットと、加熱/冷却ユニットとの間で基板を移送する基板操作ロボットを有している。これらの全てのユニットはロボットの周りにクラスタ状に配設されている。ロボットの端部エフェクタが垂直方向及び水平方向に移動可能であり、従って加熱/冷却ユニットの個々のモジュールを積層させることが可能である。
請求項（抜粋）：
ホトリソグラフィシステムにおいて、少なくとも1個のスピンコーティングユニット、少なくとも1個のベーキングユニット、固定軸周りに回動可能であり且つ前記少なくとも1個のスピンコーティングユニット及び前記少なくとも1個のベーキングユニットへ基板を送給するか又はそれから基板を回収することの可能な少なくとも1個の基板操作ロボット、を有することを特徴とするホトリソグラフィシステム。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, G03F 7/16 502
, G03F 7/26
, H01L 21/68
H01L 21/30 569 D
, H01L 21/30 564 C
