特許

J-GLOBAL ID：200903068501230234

水処理装置

発明者： 高野 弘之 ,  桑原 正樹
出願人/特許権者： 松下電工株式会社
代理人 (1件)： 西川 惠清 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-270819
公開番号（公開出願番号）：特開2000-093971
出願日： 1998年09月25日
公開日（公表日）： 2000年04月04日
要約：

【要約】【課題】 正確な残留塩素濃度を測定して電解槽をフィードバック制御することができ、目的とする正確な濃度で残留塩素を生成することができる水処理装置を提供する。【解決手段】 少なくとも一対の電極を備え電気分解によって電解水中に残留塩素を生成する電解槽1。電解槽1の下流に配置され電解水中の残留塩素の濃度を測定する残留塩素測定部2。残留塩素測定部2で測定された残留塩素濃度値を基にして電解槽1の電極に印加する電解電圧をフィードバック制御する制御部3。これらを備えて水処理装置を形成する。電解槽1で生成された残留塩素を含む浴水の残留塩素濃度は、残留塩素検出部2において正確に測定することができ、このように正確に測定された残留塩素濃度値を基にして残留塩素濃度をフィードバック制御することができる。

請求項（抜粋）：

少なくとも一対の電極を備え電気分解によって電解水中に残留塩素を生成する電解槽と、電解槽の下流に配置され電解水中の残留塩素の濃度を測定する残留塩素測定部と、残留塩素測定部で測定された残留塩素濃度値を基にして電解槽の電極に印加する電解電圧をフィードバック制御する制御部とを備えて成ることを特徴とする水処理装置。

IPC (9件)：

C02F 1/46 ,  C02F 1/50 510 ,  C02F 1/50 520 ,  C02F 1/50 531 ,  C02F 1/50 540 ,  C02F 1/50 550 ,  C02F 1/50 ,  C02F 1/50 560 ,  C02F 1/76

FI (9件)：

C02F 1/46 Z ,  C02F 1/50 510 A ,  C02F 1/50 520 A ,  C02F 1/50 531 M ,  C02F 1/50 540 B ,  C02F 1/50 550 D ,  C02F 1/50 550 L ,  C02F 1/50 560 F ,  C02F 1/76 A

Fターム (26件)：

4D050AA04 ,  4D050AA08 ,  4D050AA10 ,  4D050AB06 ,  4D050BB04 ,  4D050BB05 ,  4D050BB06 ,  4D050BD04 ,  4D050BD08 ,  4D050CA15 ,  4D061AA03 ,  4D061AA04 ,  4D061AA05 ,  4D061AA07 ,  4D061AB01 ,  4D061AB10 ,  4D061BA03 ,  4D061BB01 ,  4D061BB04 ,  4D061BB37 ,  4D061BB38 ,  4D061BB39 ,  4D061BD12 ,  4D061BD13 ,  4D061CA01 ,  4D061CA13