特許
J-GLOBAL ID：200903068503759240
プラズマ装置及びプラズマ処理方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
金本 哲男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-093758
公開番号（公開出願番号）：特開平6-283472
出願日： 1993年03月29日
公開日（公表日）： 1994年10月07日
要約：
【要約】【目的】 装置全体を大型化、複雑化することなく、処理室内に発生させるプラズマのパワー、及び陰極側にバイアスされる負電位を夫々個別に調整する。【構成】 高周波電源17からの高周波電力が印加されて処理室2内にプラズマを発生させる渦巻コイル18を設け、さらに処理室2内の下部に設けられたサセプタ7に対して高周波電源17からの高周波電力の一部を印加させるためのトランス13を設ける。トランス13には供給電圧を調整できる切替スイッチSWを設ける。
請求項（抜粋）：
気密に構成される処理室内に高周波電力によってプラズマを発生させる装置であって、処理室外部からの高周波電力が印加されて前記処理室内の上部空間にプラズマを発生させるプラズマ発生手段と、このプラズマ発生手段に高周波電力を供給する高周波電力供給手段と、前記処理室内の下部に設けられて高周波電力の印加によって負電圧を発生するバイアス発生手段と、このバイアス発生手段に前記高周波電力供給手段からの電力の一部を供給する変圧手段とを具備してなることを特徴とするプラズマ装置。
IPC (5件)：
H01L 21/302
, C23C 14/34
, C23C 16/50
, C23F 4/00
, H01L 21/205
