薄膜の形成方法、電気光学装置の製造方法及び電気光学装置並びに電子機器

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：上柳雅誉 , 藤綱英吉 , 須澤修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-395613
公開番号（公開出願番号）：特開2005-158494
出願日： 2003年11月26日
公開日（公表日）： 2005年06月16日
要約：

【課題】膜表面の平坦性の良好な薄膜を形成可能な薄膜の形成方法を提供することを目的とする。【解決手段】隔壁で囲われた薄膜形成面に薄膜材料液を充填して薄膜を形成する薄膜の製造方法であって、前記薄膜形成面に、表面が前記薄膜材料に対して親液性を有し、前記薄膜形成面と略平行な平坦面を有する第1隔壁を形成する第1隔壁形成工程と、前記第1隔壁の平坦面が露出するように第2隔壁を前記第1隔壁上に形成する第2隔壁形成工程と、前記第2隔壁の表面に、前記薄膜材料液に対して撥液性を有する撥液層を形成する撥液層形成工程と、前記第1隔壁及び第2隔壁で囲まれた領域に前記薄膜材料液を充填、乾燥して前記第1隔壁の厚みよりも膜厚の厚い薄膜を形成する薄膜形成工程と、前記撥液層及び前記薄膜の前記撥液層との当接部近傍を除去する除去工程と、を含む。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

隔壁で囲われた薄膜形成面に薄膜材料液を充填して薄膜を形成する薄膜の製造方法であって、前記薄膜形成面に、表面が前記薄膜材料に対して親液性を有し、前記薄膜形成面と略平行な平坦面を有する第1隔壁を形成する第1隔壁形成工程と、前記第1隔壁の平坦面が露出するように第2隔壁を前記第1隔壁上に形成する第2隔壁形成工程と、前記第2隔壁の表面に、前記薄膜材料液に対して撥液性を有する撥液層を形成する撥液層形成工程と、前記第1隔壁及び第2隔壁で囲まれた領域に前記薄膜材料液を充填、乾燥して前記第1隔壁の厚みよりも膜厚の厚い薄膜を形成する薄膜形成工程と、前記撥液層及び前記薄膜の前記撥液層との当接部近傍を除去する除去工程と、を含むことを特徴とする薄膜の形成方法。

IPC (6件)：

H05B33/10 , G09F9/00 , G09F9/30 , H05B33/12 , H05B33/14 , H05B33/22

FI (6件)：

H05B33/10 , G09F9/00 338 , G09F9/30 349Z , H05B33/12 B , H05B33/14 A , H05B33/22 Z

Fターム (14件)：

3K007AB18 , 3K007BA06 , 3K007DB03 , 3K007EA00 , 3K007EC00 , 3K007FA01 , 5C094AA43 , 5C094BA29 , 5C094GB10 , 5G435AA01 , 5G435BB05 , 5G435CC09 , 5G435KK05 , 5G435KK10

引用特許：

出願人引用 (1件)

特許第3328297号公報(図11F、図12C)

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