特許
J-GLOBAL ID：200903068519439823
マスタホログラム
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
梶原 康稔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-157551
公開番号（公開出願番号）：特開平11-271535
出願日： 1998年06月05日
公開日（公表日）： 1999年10月08日
要約：
【要約】【課題】 不要光の影響を低減して、良好なホログラムパターンを形成する。【解決手段】 矢印FAで示すレーザ光は、プリズム18を介してマスタホログラム59に入射する。レーザ光は、金属膜52に形成されたホログラムスリット構造によって、0次回折光と1次回折光に分離される。これらの光は、保護膜24を介してフォトポリマ22に入射し、ここで干渉してフォトポリマ22にホログラムパターンが形成される。このとき、各層の界面22A,24A,26Aでレーザ光が反射して再びマスタホログラム60に入射するが、吸収膜56が存在するため、反射光の金属膜52による反射は良好に低減される。このため、フォトポリマ22には、ムラのない良好なホログラムパターンが形成される。
請求項（抜粋）：
振幅変調ホログラム,位相変調ホログラム,及び体積ホログラムによるマスタホログラムにおいて、全面に光吸収膜を形成し、その垂直透過率を、記録する波長において70%以下に設定した体積ホログラム形成用マスタホログラム。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
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