特許

J-GLOBAL ID：200903068520595928

位置決め装置及びそれを用いた半導体素子の製造方法

発明者： 小野 一也
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-176166
公開番号（公開出願番号）：特開平7-226354
出願日： 1993年06月23日
公開日（公表日）： 1995年08月22日
要約：

【要約】【目的】 ウエハを載置するステージの位置決めを高精度に行なうことのできる位置決め装置及びそれを用いた半導体素子の製造方法を得ること。【構成】 位置合わせすべき物体を載置し、XY平面内で移動するXYステージを第1レーザ干渉計を利用して位置決めを制御手段で制御する際、光路中の温度分布を測定する為の第1温度測定手段を設け、該XYステージと略同一の空調がなされている場所に第2レーザ干渉計を設け、該第2レーザ干渉計の光路中に該光路中の温度分布を測定する為の第2温度測定手段を設け、該制御手段は第1,第2温度測定手段と第2レーザ干渉計で得られた信号を利用して該第1レーザ干渉計で得られた信号に含まれる発振波長の変化の影響を算出し該算出結果に基づいて該XYステージの位置を補正して該第1レーザ干渉計からの発振波長の変化の影響を少なくしていること。

請求項（抜粋）：

位置合わせすべき物体を載置し、XY平面内で移動するXYステージの一部にミラーを設け、該ミラーに第1レーザ干渉計からのレーザ光を入射させ、該ミラーを介したレーザ光を利用して該XYステージの位置決めを制御手段で制御する際、該第1レーザ干渉計から該ミラーに至る光路中に該光路中の温度分布を測定する為の第1温度測定手段を設け、該XYステージと略同一の空調がなされている場所に第2レーザ干渉計を設け、該第2レーザ干渉計の光路中に該光路中の温度分布を測定する為の第2温度測定手段を設け、該制御手段は該第2レーザ干渉計と該第2温度測定手段からの信号を用いて、温度の影響を除いた該第2レーザ干渉計からの発振波長の変化を算出し、該算出結果と該第1温度測定手段からの信号を用いて該第1レーザ干渉計で得られた信号に含まれる発振波長の変化の影響を算出し、該算出結果に基づいて該XYステージの位置を補正して、該第1レーザ干渉計からの発振波長の変化の影響を少なくしていることを特徴とする位置決め装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/68

FI (2件)：

H01L 21/30 520 ,  H01L 21/30 508