特許
J-GLOBAL ID：200903068539884548
めっき方法及びめっき装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
宮▼崎▲ 主税 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-125801
公開番号（公開出願番号）：特開平6-330398
出願日： 1993年05月27日
公開日（公表日）： 1994年11月29日
要約：
【要約】【目的】 めっき浴中における金属イオンの酸化を抑制することができ、めっき浴の寿命の延長を図り得るめっき方法及び装置を提供する。【構成】 被めっき部材としての電子部品13をめっき浴11中に浸漬して電気めっきするに際し、不活性ガス導入管17から不活性ガスを供給し、めっき金属水溶液12を不活性ガスバブル18でバブリングするめっき方法。
請求項（抜粋）：
被めっき部材をめっき浴中に浸漬して電気めっきするに際し、前記めっき浴を不活性ガスによりバブリングすることを特徴とする、めっき方法。
IPC (2件)：
C25D 21/10 301
, C25D 7/00
