特許

J-GLOBAL ID：200903068544306145

極端紫外光発生装置

発明者： 佐藤 弘人 ,  別所 和典
出願人/特許権者： ウシオ電機株式会社
代理人 (1件)： 須藤 政彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-137949
公開番号（公開出願番号）：特開2004-340761
出願日： 2003年05月15日
公開日（公表日）： 2004年12月02日
要約：

【課題】極端紫外光発生装置を提供する。【解決手段】高温プラズマから極端紫外光が放射される光源と、この光源から放射された極端紫外光を捕集するための光学系とを有する極端紫外光発生装置において、前記光源と光学系との間に、複数の平板が固定して配置されており、それぞれの平板は各平板がなす仮想平面が1つの直線を共有するような角度を有し、この直線上に前記光源が位置しており、前記光源と前記複数の平板との離間空間における、前記複数の平板がなす仮想平面と交差する方向にガスを流すガス噴出手段を有することを特徴とする極端紫外光発生装置。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

高温プラズマから極端紫外光が放射される光源と、この光源から放射された極端紫外光を捕集するための光学系とを有する極端紫外光発生装置において、 前記光源と光学系との間に、複数の平板が所定の間隔で固定して配置されており、それぞれの平板は各平板がなす仮想平面が1つの直線を共有するような角度を有して設置され、前記光源は当該直線上に位置しており、 前記光源と前記複数の平板との離間空間内の、前記複数の平板がなす仮想平面と交差する方向にガスを流すガス噴出手段を有することを特徴とする極端紫外光発生装置。

IPC (3件)：

G21K5/00 ,  G21K5/02 ,  H01L21/027

FI (5件)：

G21K5/00 Z ,  G21K5/02 X ,  H01L21/30 531S ,  H05G1/00 K ,  H05G1/00 R

Fターム (7件)：

4C092AA06 ,  4C092AA07 ,  4C092AB21 ,  4C092AC08 ,  4C092AC09 ,  4C092AC20 ,  5F046GC03