特許

J-GLOBAL ID：200903068556693527

チタン酸化物含有導電性被膜形成液、該形成液製造方法及びチタン酸化物含有膜を備える構造体

発明者： 緒方 四郎 ,  松井 義光
出願人/特許権者： サスティナブル・テクノロジー株式会社
代理人 (1件)： 渡邉 順之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-004506
公開番号（公開出願番号）：特開2002-212463
出願日： 2001年01月12日
公開日（公表日）： 2002年07月31日
要約：

【要約】【課題】 ガラス、セラミック、金属、プラスチック等の各種基材表面に光触媒性能、抗菌性能、防汚性能、帯電防止能、電磁シールド性等の各種機能を発現させる導電性被膜形成液、該被膜を表面に有する構造体及び該形成液の製造方法の提供。【解決手段】 塩化銅、硝酸銀、シリカ等の導電性向上物質を、四塩化チタン等の4価チタン塩溶液と塩基性溶液とを反応させてチタン水酸化物を形成する際に混在させ、得られた水酸化物を過酸化水素等の酸化剤でペルオキソ化してアモルファス型過酸化チタン分散液を形成する。また前記分散液を更に加熱することによりしてアナターゼ型に転移させることができる。その結果両型の分散液からなるチタン酸化物含有導電性被膜形成液が製造できる。

請求項（抜粋）：

導電性向上物質及び超微小粒子のアモルファス型過酸化チタンを含有する分散液からなるチタン酸化物含有導電性被膜形成液。

IPC (5件)：

C09D 1/00 ,  C09D 5/16 ,  C09D 5/24 ,  H01B 5/14 ,  H01B 13/00 503

FI (5件)：

C09D 1/00 ,  C09D 5/16 ,  C09D 5/24 ,  H01B 5/14 A ,  H01B 13/00 503 C

Fターム (19件)：

4J038AA011 ,  4J038HA211 ,  4J038HA241 ,  4J038HA441 ,  4J038NA01 ,  4J038NA05 ,  4J038NA20 ,  4J038PB02 ,  4J038PB05 ,  4J038PB06 ,  4J038PB07 ,  4J038PB09 ,  4J038PC02 ,  4J038PC03 ,  4J038PC08 ,  5G307FA01 ,  5G307FA02 ,  5G307FB01 ,  5G307FC09