特許

J-GLOBAL ID：200903068559140294

レンズ製造工程用洗浄剤組成物

発明者： 西原 元基 ,  和田 寛
出願人/特許権者： 株式会社ネオス
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-101931
公開番号（公開出願番号）：特開2000-290694
出願日： 1999年04月09日
公開日（公表日）： 2000年10月17日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、光学レンズの製造工程において使用されるアスファルトピッチ、ワックスピッチ及び保護膜のいずれにも優れた洗浄性を発揮し、人体や佳境に影響の少ないレンズ製造工程用洗浄剤組成物を提供することである。【解決手段】 下記の(イ)から(ハ)の成分を含有するレンズ製造工程用洗浄剤組成物を提供する。(イ)一般式(1)で表されるジアルキルカーボネート 20〜60重量%【化1】(式中のR1及びR2は、同一または相異なって炭素数4〜8のアルキル基を示す)(ロ)γ-ブチロラクトン、ブチロラクタム、N-メチル-2-ピロリドン、ε-カプロラクタム、ピペコリン及びピコリンから成る群から選択される1種又は2種以上の非プロトン性極性溶剤 10〜50重量%、(ハ)パラフィン系または/およびナフテン系炭化水素溶剤 5〜70重量%

請求項（抜粋）：

下記の(イ)から(ハ)の成分を含有するレンズ製造工程用洗浄剤組成物。(イ)一般式(1)で表されるジアルキルカーボネート 20〜60重量%【化1】(式中のR1及びR2は、同一または相異なって炭素数4〜8のアルキル基を示す)(ロ)γ-ブチロラクトン、ブチロラクタム、N-メチル-2-ピロリドン、ε-カプロラクタム、ピペコリン及びピコリンから成る群から選択される1種又は2種以上の非プロトン性極性溶剤 10〜50重量%、(ハ)パラフィン系または/およびナフテン系炭化水素溶剤 5〜70重量%

IPC (3件)：

C11D 7/50 ,  C11D 7/26 ,  C11D 7/60

FI (3件)：

C11D 7/50 ,  C11D 7/26 ,  C11D 7/60

Fターム (6件)：

4H003DA16 ,  4H003DB01 ,  4H003DB03 ,  4H003ED03 ,  4H003ED31 ,  4H003ED32