特許
J-GLOBAL ID：200903068575783260
微小部解析用X線源
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森 道雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-173304
公開番号（公開出願番号）：特開平11-023800
出願日： 1997年06月30日
公開日（公表日）： 1999年01月29日
要約：
【要約】【課題】微小部の分析、回折等に好適な細束の高輝度X線束が得られるX線源の提供。【解決手段】(1)ターゲット表面が凸曲面または凹曲面であり、ターゲット表面から放出されるX線束のうち、凸曲面または凹曲面の曲面に沿って放出される表面の断面形状が弧状の縁付近の一定部分を、表面の断面形状が凹曲線でその曲線の平均曲率半径がX線の進行方向に漸減する全反射ミラーにより全反射させる電子線源ターゲットおよび全反射ミラーが配設されている微小部解析用X線源。(2)上記(1)において、ターゲットを回転する円板状ターゲットとし、円板状ターゲットの周縁表面を中心軸を含む平面による切断面上で凸曲線または凹曲線とする微小部解析用X線源。
請求項（抜粋）：
電子線源、電子線が照射されるターゲットおよびターゲットから発生したX線を反射させる全反射ミラーを備えたX線源であって、ターゲット表面が凸曲面または凹曲面であり、ターゲット表面からターゲット表面の接平面の包絡面に沿って放出されたX線束の縁付近の断面が弧状の一定部分を全反射する位置に配置された全反射ミラーの表面形状が、X線進行方向に垂直な断面で凹曲線であり、かつその凹曲線の平均曲率半径がX線の入射側から反射側にかけて漸減する形状であることを特徴とする微小部解析用X線源。
IPC (5件)：
G21K 5/02
, G01N 23/00
, G21K 5/08
, H01J 35/08
, H05G 1/00
G21K 5/02 X
, G01N 23/00
, G21K 5/08 X
, H01J 35/08 C
, H05G 1/00 C
