特許
J-GLOBAL ID：200903068576599934

ラテックス及びラテックススポンジ

発明者：
小幡 一夫

小幡 一夫 について


出願人/特許権者：
雪ヶ谷化学工業株式会社

雪ヶ谷化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 藤沢 則昭 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-256264
公開番号（公開出願番号）：特開平11-080440
出願日： 1997年09月05日
公開日（公表日）： 1999年03月26日
要約：
【要約】【課題】 高圧蒸気加硫缶や防汚加工用の設備を不要とし、従来の製造装置で製造できる金属イオン汚染性が低減されたラテックスススポンジとその原料ラテックスを提供する。【解決手段】 重合停止剤を含有した70%濃度の時の粘度が1000センチポイズ以下のゴムラテックスに、ラジカル重合開始剤を添加した原料ラテックス及びこれを用いて製造したラテックススポンジとした。
請求項（抜粋）：
重合停止剤を含有した70%濃度の時の粘度が1000センチポイズ以下のゴムラテックスに、ラジカル重合開始剤を添加したことを特徴とする、ラテックス組成物。
IPC (4件)：
C08L 21/02 ,  C08J 9/04 CEQ ,  C08K 3/36 ,  C08K 5/14
FI (4件)：
C08L 21/02 ,  C08J 9/04 CEQ ,  C08K 3/36 ,  C08K 5/14
引用特許：
審査官引用 (5件)
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