特許

J-GLOBAL ID：200903068583268064

処理方法及び処理装置

発明者： 渡辺 一生
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 井上 誠一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-095408
公開番号（公開出願番号）：特開2004-299850
出願日： 2003年03月31日
公開日（公表日）： 2004年10月28日
要約：

【課題】ロボットアームや搬送ベルトやを用いなくとも,乾燥室への搬入出が迅速に行え,また輻射による加熱乾燥を伴う乾燥であっても,安定した搬送を実現する。【解決手段】乾燥室12は,減圧ポンプ13によって室内が減圧され,室内の上部には遠赤外線によって加熱する加熱装置18を備えている。乾燥室12の室内には,ガラス基板Gを搬送する搬送ローラ31が設けられている。乾燥室12の搬入口14側には搬送ローラ32を有する真空予備室21が隣接し,搬出口16側には搬送ローラ33を有する真空予備室22が隣接している。乾搬送ローラ31,33を構成するコロは,ガラス基板Gの搬送方向に沿った方向では,重複して配置されていない。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

処理室を減圧して,処理室内の基板を処理する方法であって, 前記処理室内において,基板を搬送ローラの上に載置したまま,前記処理室を減圧して該基板を乾燥させる処理工程を有することを特徴とする,処理方法。

IPC (7件)：

B65G49/06 ,  F26B5/04 ,  F26B9/06 ,  F26B15/12 ,  G02F1/13 ,  H01L21/027 ,  H01L21/68

FI (7件)：

B65G49/06 Z ,  F26B5/04 ,  F26B9/06 A ,  F26B15/12 C ,  G02F1/13 101 ,  H01L21/68 A ,  H01L21/30 567

Fターム (34件)：

2H088FA17 ,  2H088FA21 ,  2H088FA25 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088HA12 ,  2H088MA04 ,  2H088MA20 ,  3L113AA02 ,  3L113AB02 ,  3L113AC01 ,  3L113AC31 ,  3L113AC65 ,  3L113BA34 ,  3L113DA08 ,  3L113DA09 ,  3L113DA24 ,  5F031CA05 ,  5F031FA02 ,  5F031FA07 ,  5F031FA12 ,  5F031GA51 ,  5F031GA53 ,  5F031HA13 ,  5F031HA38 ,  5F031LA13 ,  5F031MA23 ,  5F031MA26 ,  5F031NA05 ,  5F031NA07 ,  5F046CD01 ,  5F046CD05 ,  5F046KA02 ,  5F046KA08