特許
J-GLOBAL ID:200903068583820107
表面処理用組成物および表面処理樹脂成形体
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
植木 久一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-104220
公開番号(公開出願番号):特開平8-295848
出願日: 1995年04月27日
公開日(公表日): 1996年11月12日
要約:
【要約】【目的】 ガスバリア性に優れ、透明であり、非処理物の物性を損なわないような可撓性を有する表面処理被膜を形成し得る表面処理用組成物を提供することを目的とし、またこのような優れた特性をもつ表面処理樹脂成形体を提供することを第2の目的とする。【構成】 分子内に1級および/または2級アミノ基を有し、かつSi(OR1)基を含まない有機化合物(A)と、該アミノ基と反応し得る官能基を分子内に有する化合物(B)、有機金属化合物(C)および/またはその加水分解縮合物と溶媒(D)を含有する表面処理用組成物である。また該組成物で表面を処理した表面処理樹脂成形体も本発明に含まれる。
請求項(抜粋):
分子内に1級および/または2級アミノ基を有し、かつSi(OR1 )基(R1 は同一または異なっていてもよく、水素原子、低級アルキル基またはアシル基を表す)を含まない有機化合物(A)、該アミノ基と反応し得る官能基を分子内に有する化合物(B)、下記一般式(I)で示される有機金属化合物(C)および/またはその加水分解縮合物、R2mM(OR3 )n ...(I)(式中Mは金属元素、R2 は同一または異なっていてもよく、水素原子、低級アルキル基、アリール基、ビニル基または炭素鎖に直結したメルカプト基、またはメタクリロイル基を表し、R3 は同一または異なっていてもよく、水素原子、低級アルキル基またはアシル基を表し、mは0または正の整数、nは1以上の整数でかつm+nは金属元素Mの原子価と一致する)および溶媒(D)を含有することを特徴とする表面処理用組成物。
IPC (4件):
C09D201/10 PDC
, C09D179/02
, C09D179/02 PLT
, C09D183/00 PMM
FI (4件):
C09D201/10 PDC
, C09D179/02
, C09D179/02 PLT
, C09D183/00 PMM
引用特許:
審査官引用 (4件)
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塗膜の形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-256745
出願人:大日本インキ化学工業株式会社
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特開平2-068126
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特開昭55-062973
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