特許
J-GLOBAL ID：200903068584610050
荷電ビームの調整方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-107438
公開番号（公開出願番号）：特開平9-293477
出願日： 1996年04月26日
公開日（公表日）： 1997年11月11日
要約：
【要約】【課題】 電子ビームの焦点位置を高精度に合わせることができ、微細パターンの描画精度向上に寄与する。【解決手段】 所定の開口形状のアパーチャマスクに電子ビーム101を照射することにより、開口形状のビームを生成し、これを偏向して試料109上の所望位置に描画する電子ビーム描画装置において、ビームサイズと、ビームの走査方向に一致して並べられた複数の微細マークの間隔との間に適切な関係を選び、少なくとも2個のマーク上を電子ビームで走査し、該走査により得られる反射電子信号の強度を評価関数とし、該評価関数を焦点位置を変えながら測定し、評価関数と焦点位置との関係を二次関数に当てはめて、該二次関数の極値となる焦点位置を最適焦点位置としてビームの焦点位置調整を行う。
請求項（抜粋）：
所定の間隔で配置された少なくとも2個の微細マークの上を荷電ビームで走査し、該走査により得られる反射電子又は二次電子信号を検出して前記荷電ビームの強度分布を測定し、該測定した強度分布に基づいて前記荷電ビームの焦点位置調整を行うことを特徴とする荷電ビームの調整方法。
IPC (5件)：
H01J 37/21
, G03F 7/20 504
, G21K 5/04
, H01J 37/305
, H01L 21/027
H01J 37/21 Z
, G03F 7/20 504
, G21K 5/04 M
, H01J 37/305 A
, H01L 21/30 541 F
