特許

J-GLOBAL ID：200903068586651748

露光方法及び露光装置

発明者： 中岡 里子
出願人/特許権者： 松下電子工業株式会社
代理人 (1件)： 岡田 和秀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-004705
公開番号（公開出願番号）：特開平11-204404
出願日： 1998年01月13日
公開日（公表日）： 1999年07月30日
要約：

【要約】【課題】常に所望するレジストパターン寸法を得られるうえに、ショット内の寸法制御精度を上げる。【解決手段】所望するレジストパターン寸法に応じて設定された標準露光量を、マスク開口率を変化させてプロットしてなる最適露光量-マスク開口率の対応関係に使用マスクの開口率を照合した結果に基づいて補正する。

請求項（抜粋）：

所望するレジストパターン寸法に応じて設定された標準露光量を、使用マスクのパターン粗密程度から補正することを特徴とする露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (4件)：

H01L 21/30 514 C ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 514 E ,  H01L 21/30 515 Z