特許
J-GLOBAL ID：200903068588311170
回転式基板処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-276025
公開番号（公開出願番号）：特開平8-112564
出願日： 1994年10月14日
公開日（公表日）： 1996年05月07日
要約：
【要約】【目的】 簡単な構成で、基板の裏面を良好に洗浄できるようにする。【構成】 基板Wを保持して鉛直方向の軸芯周りで回転する基板保持手段を、外周縁のみを保持する保持部と、回転軸部と、保持部と回転軸部との間の基板Wの裏面の下方に対向する水平支持部8とから構成し、水平支持部8を、隣合うものどうしの間に洗浄液を通す隙間Sが形成されるように放射状の多数の支持部材8a...で構成し、水平支持部8の下方に、鉛直方向上向きの第1のストレートノズル9と基板Wの回転軸芯から見て鉛直方向上向き方向から回転方向に傾斜した第2のストレートノズル10とを設け、支持部材8a...に遮られて第1のストレートノズル9からの洗浄液が到達しない箇所に、第2のストレートノズル10からの洗浄液を供給できるように構成する。
請求項（抜粋）：
基板を保持して鉛直方向の軸芯周りで回転する基板保持手段と、前記基板保持手段に保持された前記基板の裏面に洗浄液を供給するノズルとを備えた回転式基板処理装置であって、前記基板保持手段を、前記基板の外周縁のみを保持する保持部と、回転軸部と、前記保持部と前記回転軸部との間の前記基板の裏面の下方に対向する水平支持部とから構成し、前記水平支持部を、隣合うものどうしの間に洗浄液を通す隙間が形成されるように複数個の支持部材で構成し、前記水平支持部の下方に、前記隙間を通じて前記基板の裏面に洗浄液を供給する複数個のノズルを設けるとともに、少なくとも2個のノズルにおいて、前記基板の回転軸芯から見た洗浄液の供給方向を互いに異ならせてあることを特徴とする回転式基板処理装置。
IPC (3件)：
B05C 11/08
, G03F 7/16 502
, H01L 21/027
