特許

J-GLOBAL ID：200903068593120995

水中の有機物除去装置及び超純水製造装置

発明者： 日高 真生 ,  田辺 円
出願人/特許権者： オルガノ株式会社
代理人 (1件)： 畑中 芳実 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-029001
公開番号（公開出願番号）：特開平11-226569
出願日： 1998年02月12日
公開日（公表日）： 1999年08月24日
要約：

【要約】【課題】 界面活性剤及びその他の有機物を含む被処理水(例えば超純水製造装置の超純水製造系で製造した超純水を使用場所で使用することにより発生した排水等)に含まれる界面活性剤及びその他の有機物を効率的に除去することが可能な有機物除去装置、並びに、この有機物除去装置を用いた超純水製造装置を提供する。【解決手段】 塩形のイオン交換樹脂を用いたイオン交換装置であって、界面活性剤及びその他の有機物を含む被処理水を通水することにより、被処理水中に含まれる界面活性剤を塩形のイオン交換樹脂で吸着除去するイオン交換装置32と、イオン交換装置34の処理水中に残留する有機物を酸化分解する有機物酸化装置36とを具備する有機物除去装置とする。また、超純水製造装置において、排水回収系の純水用排水回収系、雑用水用排水回収系及び廃水処理系の1以上に、前記有機物除去装置を設置する。

請求項（抜粋）：

塩形のイオン交換樹脂を用いたイオン交換装置であって、界面活性剤及びその他の有機物を含む被処理水を通水することにより、該被処理水中に含まれる界面活性剤を前記イオン交換樹脂で吸着除去するイオン交換装置と、前記イオン交換装置の処理水中に残留する有機物を酸化分解する有機物酸化装置とを具備することを特徴とする水中の有機物除去装置。

IPC (13件)：

C02F 1/42 ,  B01D 19/00 101 ,  B01J 39/04 ,  B01J 41/04 ,  B01J 47/04 ,  C02F 1/28 ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/72 ,  C02F 1/72 101 ,  C02F 1/78 ,  C02F 9/00 502 ,  C02F 9/00 ,  C02F 9/00 503

FI (16件)：

C02F 1/42 A ,  B01D 19/00 101 ,  B01J 39/04 G ,  B01J 41/04 G ,  B01J 47/04 A ,  C02F 1/28 D ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/72 Z ,  C02F 1/72 101 ,  C02F 1/78 ,  C02F 9/00 502 R ,  C02F 9/00 502 J ,  C02F 9/00 502 N ,  C02F 9/00 502 E ,  C02F 9/00 503 C ,  C02F 9/00 503 B