特許
J-GLOBAL ID：200903068594919938
表面形状測定装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
本庄 武男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-125465
公開番号（公開出願番号）：特開2000-314613
出願日： 1999年05月06日
公開日（公表日）： 2000年11月14日
要約：
【要約】【課題】 干渉計を用いて大面積の測定対象物の表面形状測定をする場合,小面積の参照平面を用いて測定対象物を小領域に分割して測定する方法を用いると,測定に長時間を要するという問題点があった。【解決手段】 参照平面3を,現実に製作可能な平面精度で,測定対象物0の表面形状を一回で測定可能な面積に形成する。また,上記参照平面3よりも小面積で,且つ平面精度の高い構成平面5を,移動機構4上に保持させる。そして,測定対象物0の測定を行う前に,校正平面5を参照平面3に対して相対的に移動させつつ,参照平面の絶対形状を複数の部分領域に分けて測定する。測定対象物0の測定を行う際には,上記校正平面5に代えて測定対象物0を参照平面3の下方に位置決めし,参照平面3を用いて一回で表面形状を測定し,得られた表面形状を予め測定した参照平面3の絶対形状で校正することにより,上記測定対象物表面の絶対形状を算出する。これにより,平面精度の高い大面積の参照平面を用いることなく,測定対象物の表面形状の測定を短時間で行うことが可能となる。
請求項（抜粋）：
所定の参照平面からの反射光と,測定対象物の表面からの反射光とを干渉させることによって観測される干渉縞に基づいて上記測定対象物表面の形状を測定する表面形状測定装置において,上記参照平面よりも小面積で,且つ絶対形状が既知の校正平面と,上記校正平面を,上記参照平面に対して相対的に移動させる校正平面移動手段と,上記校正平面移動手段によって上記校正平面を上記参照平面に対して相対的に移動させつつ,上記校正平面からの反射光と上記参照平面からの反射光とを干渉させて上記参照平面の絶対形状を複数の部分領域に分けて測定する参照平面形状測定手段と,上記参照平面を用いて取得された上記測定対象物の表面形状と,上記参照平面形状測定手段によって得られた上記参照平面の絶対形状とに基づいて,上記測定対象物表面の絶対形状を算出する表面形状算出手段とを具備してなることを特徴とする表面形状測定装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (11件)：
2F064AA09
, 2F064CC04
, 2F064EE05
, 2F064GG00
, 2F065AA46
, 2F065AA47
, 2F065BB01
, 2F065DD03
, 2F065DD06
, 2F065FF51
, 2F065QQ13
