特許
J-GLOBAL ID：200903068601030437
感光性ケイ素含有レジスト組成物及びその使用方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
頓宮 孝一 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-086492
公開番号（公開出願番号）：特開平6-027671
出願日： 1993年04月13日
公開日（公表日）： 1994年02月04日
要約：
【要約】【目的】 結像可能なO2 RIEバリア被膜用の感光性ケイ素含有レジスト組成物、及び上記の感光性ケイ素含有レジスト組成物を使って基板上にイメージ・パターンを形成する方法を提供すること。【構成】 本発明によるレジスト組成物は、ジアゾナフトキノンスルホニルオキシ基で部分エステル化されたヒドロキシフェニルシルセスキオキサン及びシロキサンを含む。
請求項（抜粋）：
次の化学式1で表されるポリ(p-ヒドロキシベンジルシルセスキオキサン-co-p-メトキシベンジルシルセスキオキサン-co-p-(2-ジアゾ-1-ナフトキノンスルホニルオキシ)シルセスキオキサン)と、【化1】次の化学式2で表されるポリ(p-ヒドロキシフェニルシルセスキオキサン-co-p-メトキシフェニルシルセスキオキサン-co-p-(2-ジアゾ-1-ナフトキノンスルホニルオキシ)シルセスキオキサン)と、【化2】次の化学式3で表されるポリ(メチル-p-ヒドロキシベンジルシロキサン-co-メチル-p-メトキシベンジルシロキサン-co-メチル-p-(2-ジアゾ-1-ナフトキノンスルホニルオキシ)シロキサン)と【化3】から成る群から選択された、フェノール性水酸基を含む、ジアゾナフトキノン基で部分エステル化されたシロキサン・ポリマーを有する感光性ケイ素含有レジスト組成物であって、上式において(1)RがHまたはSi(CH3)3であり、(2)Arが、それぞれ次の化学式4で表される、p-ヒドロキシフェニル基、p-メトキシフェニル基、またはp-(2-ジアゾ-1-ナフトキノンスルホニルオキシ)フェニル基であり、【化4】(3)DQが、それぞれ次の化学式5で表される、2-ジアゾ-1-ナフトキノン-4残基、2-ジアゾ-1-ナフトキノン-5残基またはそれらの混合物であり、(4)nが10〜20の間の整数であり、【化5】(5)p-ヒドロキシフェニル基とp-メトキシフェニル基とp-(2-ジアゾ-1-ナフトキノンスルホニルオキシ)フェニル基のモル比が75:20:5から30:50:20の範囲内にあることを特徴とする、前記レジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/075 511
, G03F 7/023
, H01L 21/027
