特許
J-GLOBAL ID：200903068606586190
フォトマスク及び露光方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
開口 宗昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-134693
公開番号（公開出願番号）：特開平10-326005
出願日： 1997年05月26日
公開日（公表日）： 1998年12月08日
要約：
【要約】【課題】 本発明の課題は、安定して作製することが困難な微細パターンを用いずに孤立ラインパターンの焦点深度を拡大でき、併せて焦点位置変化による寸法変動を小さく抑えることにより寸法精度を向上できるフォトマスク及び露光方法を提供することである。【解決手段】 フォトマスクは、透明基板上の孤立ラインパターンの周辺の透過光、即ち露光光に170度以下の位相差を生じさせる。位相差を生じさせる手段としては、孤立ラインパターンの周辺の透明基板を深さエッチングし、透明基板における露光光の透過距離を変える。露光方法は上記フォトマスクを用いて、複数の焦点位置で露光を行う。
請求項（抜粋）：
遮光膜により透明基板上に選択的に形成された、透明領域と遮光領域からなる所定のパターンを有するフォトマスクにおいて、前記透明領域が遮光領域に接する第1の透明領域と、第1の透明領域に接する第2の透明領域より成り、第1の透明領域を透過した後の光と第2の透明領域を透過した後の光との位相差が170度以下であることを特徴とするフォトマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
