特許
J-GLOBAL ID：200903068609435290
抗菌剤担体用シリカゲル及び抗菌剤
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
真田 有
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-401402
公開番号（公開出願番号）：特開2003-206204
出願日： 2001年12月28日
公開日（公表日）： 2003年07月22日
要約：
【要約】【課題】 抗菌剤担体用シリカゲルにおいて、抗菌効果を向上させ、シャープな細孔分布に基づく新規な機能を付加でき、さらに、低コストで製造できるようにする。【解決手段】 細孔内に所定の抗菌成分が担持される、抗菌剤担体用シリカゲルであって、(a)細孔容積が0.6〜2.0ml/gであり、(b)比表面積が300〜1000m2/gであり、(c)細孔の最頻直径(Dmax)が20nm未満であり、(d)直径がDmax±20%の範囲内にある細孔の総容積が全細孔の総容積の50%以上であり、(e)非晶質であり、(f)金属不純物の総含有率が500ppm以下であり、(g)固体Si-NMRでのQ4ピークのケミカルシフトをδ(ppm)とした場合、δが下記式(I)を満足するようにする。 -0.0705×(Dmax)-110.36>δ ・・・式(I)
請求項（抜粋）：
細孔内に所定の抗菌成分が担持される、抗菌剤担体用シリカゲルであって、(a)細孔容積が0.6〜2.0ml/gであり、(b)比表面積が300〜1000m2/gであり、(c)細孔の最頻直径(Dmax)が20nm未満であり、(d)直径がDmax±20%の範囲内にある細孔の総容積が、全細孔の総容積の50%以上であり、(e)非晶質であり、(f)金属不純物の総含有率が500ppm以下であり、(g)固体Si-NMRでのQ4ピークのケミカルシフトをδ(ppm)とした場合に、δが下記式(I) -0.0705×(Dmax)-110.36>δ ・・・式(I)を満足することを特徴とする、抗菌剤担体用シリカゲル。
IPC (3件)：
A01N 25/12 101
, A01N 59/16
, C01B 33/12
A01N 25/12 101
, A01N 59/16 A
, C01B 33/12 Z
4G072AA25
, 4G072AA28
, 4G072BB15
, 4G072CC10
, 4G072HH30
, 4G072JJ11
, 4G072MM01
, 4G072RR05
, 4G072TT05
, 4G072TT08
, 4G072TT09
, 4G072TT19
, 4G072TT30
, 4G072UU17
, 4H011AA01
, 4H011AA03
, 4H011BA01
, 4H011BB18
, 4H011BC18
, 4H011DA02
, 4H011DD05
, 4H011DF02
