特許
J-GLOBAL ID：200903068610545717
表面分析装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-178400
公開番号（公開出願番号）：特開平8-015188
出願日： 1988年07月15日
公開日（公表日）： 1996年01月19日
要約：
【要約】【目的】 面方向に1μm以下の高分解能でかつ信号強度が高く、元素種や化学結合状態等の化学的情報の取得が可能な表面分析装置を提供すること。【構成】 軟X線から真空紫外領域の光を光学系を用いて集光し試料面に照射し、該試料面から射出される電子の運動エネルギーを解析して、試料表面に関する化学的情報を取得する。特に上記光学系に2つの可変スリット18,18′を用いることにより、試料5上での光のスポットサイズを連続的に変化させ、光をさらに小さな領域に集光することができる。
請求項（抜粋）：
軟X線又は真空紫外領域の光を発生する光源と、試料台と、該光源からの光を該試料台に載置された試料に照射する光照射手段と、該試料から放出される電子のエネルギーを分析する手段からなり、上記光照射手段は上記試料上に照射される光のスポットサイズを連続的に変化させる手段を含むことを特徴とする表面分析装置。
引用特許：
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