ポリシロキサン、ポリシロキサン組成物、絶縁膜の製造方法、着色部材の製造方法及び導電膜の製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：外川英明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-196312
公開番号（公開出願番号）：特開平9-040779
出願日： 1995年08月01日
公開日（公表日）： 1997年02月10日
要約：

【要約】【目的】基板の歪みを招くことなく可撓性の高い絶縁膜等を形成することや、アルカリ現像で所望の膜パターンを形成することが可能なポリシロキサン及びポリシロキサン組成物の提供。【構成】下記一般式(1)で表される繰返し単位を有するポリシロキサンに対し、光酸発生剤を配合する。【化1】

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で表される繰返し単位を有することを特徴とするポリシロキサン。【化1】

IPC (5件)：

C08G 77/14 NUG , C08L 83/06 LRT , G03F 7/004 503 , G03F 7/039 501 , G03F 7/075 511

FI (5件)：

C08G 77/14 NUG , C08L 83/06 LRT , G03F 7/004 503 , G03F 7/039 501 , G03F 7/075 511

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