回転式基板処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：生形元重 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-111999
公開番号（公開出願番号）：特開2001-293397
出願日： 2000年04月13日
公開日（公表日）： 2001年10月23日
要約：

【要約】【課題】回転式基板処理装置において、薬液吐出ノズルからの液ダレを低コストで防止する。【解決手段】基板10の表面に薬液を供給する薬液吐出ノズル21aの上流側に、吐出方向に所定の液圧が付加されることにより開放する閉止弁21bを設ける。薬液吐出ノズル21aに薬液を供給する供給系統に、薬液の供給を停止したときに、閉止弁21bより上流側の残圧を抜く圧抜き機構を設ける。

請求項（抜粋）：

基板をロータ上で回転させながら、スプレーユニットにより基板の上方からその上面に薬液を供給する回転式基板処理装置において、前記スプレーユニットに取付けられた薬液吐出ノズルが、その下部が下方に向かって外径を漸減させる逆錐形状の液切り部とされ、この液切り部の上部側面又は液切り部より上方の側面に設けられた吐出口から斜め下方へ薬液を噴出する構成である回転式基板処理装置。

IPC (5件)：

B05B 1/14 , B05C 5/00 101 , B05C 11/08 , G03F 7/30 502 , H01L 21/027

FI (5件)：

B05B 1/14 Z , B05C 5/00 101 , B05C 11/08 , G03F 7/30 502 , H01L 21/30 569 C

Fターム (30件)：

2H096AA00 , 2H096GA29 , 2H096GA31 , 2H096LA02 , 4F033DA01 , 4F033EA01 , 4F033EA06 , 4F033JA04 , 4F033LA12 , 4F033NA01 , 4F041AA02 , 4F041AA06 , 4F041AB02 , 4F041BA13 , 4F041BA47 , 4F041BA60 , 4F041CA02 , 4F041CA11 , 4F042AA02 , 4F042AA07 , 4F042CA08 , 4F042CB02 , 4F042CB26 , 4F042DF32 , 4F042EB09 , 4F042EB13 , 4F042EB17 , 4F042EB25 , 5F046LA03 , 5F046LA04

引用特許：

審査官引用 (12件)

特開昭63-233528
特開平2-131163
特開昭58-017444

全件表示

前のページに戻る