特許
J-GLOBAL ID：200903068635593910
レーザマーキング方法及び装置
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
野口 武男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-322863
公開番号（公開出願番号）：特開平10-166167
出願日： 1996年12月03日
公開日（公表日）： 1998年06月23日
要約：
【要約】【課題】製造効率を低下させることなく、しかも美麗で且つ高精度の刻印加工を実現できくレーザマーキング方法及び装置を提供する。【解決手段】マーキングパターンを表示可能なマスクに、第1偏向器による1走査ラインに相当する分割パターンを順次連続して表示し、レーザ発振器からのレーザ光を前記第1偏向器を介して前記分割パターン上に順次走査させるとともに、ワーク表面の刻印位置を各分割パターンの1走査透過光毎に走査方向と直交する方向に第2偏向器により移動させて各分割パターンを合成刻印するレーザマーキング方法にあって、レーザ発振器(1) からのレーザ光をプリズム(5) 等を通過させることにより、レーザ光の光軸と交差する方向に2以上に分割するとともに、その2以上に分割された各分割レーザ光の一部を液晶マスク(3) の開口部(3a)の少なくともレーザ光の走査方向と交差する方向に重畳させて透過させ、同開口部(3a)を通過するレーザ光のエネルギー分布を均一化させて、刻印パターンの分割方向における筋状の陰影をなくして美麗なパターンを得る。
請求項（抜粋）：
マーキングパターンを表示可能なマスクに、第1偏向器による1走査ラインに相当する分割パターンを順次連続して表示し、レーザ発振器からのレーザ光を前記第1偏向器を介して前記分割パターン上に順次走査させるとともに、ワーク表面の刻印位置を各分割パターンの1走査透過光毎に走査方向と直交する方向に第2偏向器により移動させて各分割パターンを合成刻印するレーザマーキング方法にあって、前記レーザ発振器からのレーザ光を、その光軸と交差する方向に2以上に分割させること、及び2以上に分割された各分割レーザ光の一部を重畳させて、前記マスクの透過光のうち少なくとも前記レーザ光の走査方向と交差する方向のエネルギー分布を均一化させること、を含んでなることを特徴とするレーザマーキング方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
B23K 26/00 B
, B23K 26/00 M
, H01L 21/02 A
