特許
J-GLOBAL ID:200903068635701900

マイクロレンズ基板の製造方法および液晶表示装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山本 秀策
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-324463
公開番号(公開出願番号):特開平10-160905
出願日: 1996年12月04日
公開日(公表日): 1998年06月19日
要約:
【要約】【課題】 セルフアライメントな方法によりマイクロレンズの隙間部に遮光膜を形成する。【解決手段】 基板10上に電解めっき用電極11を形成し、その上に複数のマイクロレンズ15を形成する。電解めっき用電極11を一方の電極として電解めっきを行うことにより、電解めっき用電極11のマイクロレンズ15が形成されていない部分上に金属遮光膜27を形成する。
請求項(抜粋):
基板上に電解めっき用電極を形成する工程と、該電解めっき用電極の上に複数のマイクロレンズを形成する工程と、該電解めっき用電極を一方の電極として電解めっきを行い、該電解めっき用電極の該マイクロレンズ非形成部上に該マイクロレンズパターンに相補的な金属遮光膜パターンを形成する工程とを含むマイクロレンズ基板の製造方法。
IPC (3件):
G02B 3/00 ,  G02F 1/1335 ,  G02F 1/1335 500
FI (3件):
G02B 3/00 A ,  G02F 1/1335 ,  G02F 1/1335 500

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