液晶表示素子製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-187557
公開番号（公開出願番号）：特開平5-034652
出願日： 1991年07月26日
公開日（公表日）： 1993年02月12日
要約：

【要約】【目的】この発明は主としてSTN型の液晶表示素子の製造に好適する液晶表示素子製造方法を提供することにある。【構成】基板BP上に配向膜を形成する配向膜形成工程と、配向膜形成工程にて形成された配向膜表面をラビングするラビング工程と、ラビング工程後に基板BPを洗浄する洗浄工程と、洗浄工程にて洗浄された一対の基板BPを貼り合わせ、この張り合わされた一対の基板BP間に液晶を注入する液晶注入工程とを具備する液晶基板製造方法において、洗浄工程は、基板BPを洗浄液を用いて湿式物理洗浄する第1洗浄工程と、この第1洗浄工程後にオゾン中にて上記基板BPに紫外線を照射し乾式洗浄する第2洗浄工程とを具備することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

基板上に配向膜を形成する配向膜形成工程と、この配向膜形成工程にて形成された配向膜表面をラビングするラビング工程と、このラビング工程後に上記基板を洗浄する洗浄工程と、この洗浄工程にて洗浄された一対の基板を貼り合わせ、この張り合わされた一対の基板間に液晶を注入する液晶注入工程とを具備する液晶基板製造方法において、上記洗浄工程は、上記基板を洗浄液を用いて湿式物理洗浄する第1洗浄工程と、この第1洗浄工程後にオゾン中にて上記基板に紫外線を照射し乾式洗浄する第2洗浄工程とを具備することを特徴とする液晶表示素子製造方法。

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平3-081730
特開昭61-212375
特開平2-282727

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