特許
J-GLOBAL ID：200903068645505513
有機塩素化合物を含有する産業廃棄物の無害化処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
川和 高穂
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-297156
公開番号（公開出願番号）：特開平10-118613
出願日： 1996年10月18日
公開日（公表日）： 1998年05月12日
要約：
【要約】【課題】 本発明は、現在保管されているPCB等の有機塩素化合物を含むトランス、コンデンサ等の産業廃棄物の無害化処理方法を課題とする。【解決手段】 下記の工程を備えたことを特徴とする有機塩素化合物を含有する産業廃棄物の無害化処理方法である。(a)還元性溶解炉に有機塩素化合物を抜き取った産業廃棄物を装入し、(b)前記溶解炉内の雰囲気を還元性に維持しながら1100°C以上において加熱し、(c)前記産業廃棄物に含まれている金属成分を溶解して、前記溶解炉から排出し、(d)前記溶解炉内で発生したガスをガス分解炉において1100°C以上において1秒以上滞留させて、該ガス中の有機塩素化合物を分解させた後排出させ、(e)前記ガス分解炉から排出されたガスから少なくともこのガス中のHClを吸着・吸収させた後外部に排出する。
請求項（抜粋）：
下記の工程を備えたことを特徴とする有機塩素化合物を含有する産業廃棄物の無害化処理方法。(a)還元性溶解炉に有機塩素化合物の一部又は全部を抜き取った産業廃棄物を装入し、(b)前記溶解炉内の雰囲気を還元性に維持しながら1100°C以上において加熱し、(c)前記産業廃棄物に含まれている金属成分を溶解して、前記溶解炉から排出し、(d)前記溶解炉内で発生したガスをガス分解炉において1100°C以上において1秒以上滞留させて、該ガス中の有機塩素化合物を分解させた後排出させ、(e)前記ガス分解炉から排出されたガスから少なくともこのガス中のHClを吸着・吸収させた後外部に排出する。
IPC (3件)：
B09B 3/00
, B09B 3/00 ZAB
, A62D 3/00 ZAB
B09B 3/00 303 Z
, A62D 3/00 ZAB
, B09B 3/00 ZAB
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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