特許

J-GLOBAL ID：200903068646875900

電気光学装置、電子機器、電気光学装置用基板および電気光学装置用基板の製造方法、並びに遮光膜

発明者： 河田 英徳
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 上柳 雅誉 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-183864
公開番号（公開出願番号）：特開2002-122857
出願日： 2001年06月18日
公開日（公表日）： 2002年04月26日
要約：

【要約】【課題】 優れた遮光性能を有する遮光膜を提供する。また、この遮光膜を備えた電気光学装置用基板および電気光学装置並びに電子機器を提供すること。【解決手段】高融点金属の窒素化合物、シリコン化合物、タングステン化合物、タングステン、シリコンのうちの1種からなるバリア層B1と、酸素化合物になると遮光性の劣化が見られる金属単体または金属化合物のいずれか一方からなるメタル層M1とを有する遮光膜111とする。

請求項（抜粋）：

電気光学物質を挟持した一対の基板と、一方の基板上に設けられたスイッチング素子と、前記スイッチング素子に対向する位置に設けられた遮光膜とを有する電気光学装置において、前記遮光膜は、高融点の金属単体または金属化合物であるメタル層と、前記メタル層の少なくとも一方の面に積層された無酸素系の高融点の金属または金属化合物でなるバリア層を備えることを特徴とする電気光学装置。

IPC (4件)：

G02F 1/1335 500 ,  G02B 5/02 ,  G02F 1/1362 ,  H01L 29/786

FI (4件)：

G02F 1/1335 500 ,  G02B 5/02 B ,  G02F 1/1362 ,  H01L 29/78 619 B

Fターム (60件)：

2H042BA12 ,  2H042BA15 ,  2H042BA20 ,  2H091FA08X ,  2H091FA08Z ,  2H091FA10X ,  2H091FA14 ,  2H091FA21X ,  2H091FA23Z ,  2H091FA26X ,  2H091FA35Y ,  2H091FA37X ,  2H091FD06 ,  2H091GA01 ,  2H091GA06 ,  2H091GA13 ,  2H091LA03 ,  2H091MA07 ,  2H092GA29 ,  2H092JA24 ,  2H092JB51 ,  2H092JB61 ,  2H092KA10 ,  2H092KB25 ,  2H092MA05 ,  2H092MA13 ,  2H092MA17 ,  2H092MA29 ,  2H092NA25 ,  2H092PA01 ,  2H092PA02 ,  2H092RA05 ,  5F110AA18 ,  5F110AA21 ,  5F110BB02 ,  5F110CC02 ,  5F110DD02 ,  5F110DD03 ,  5F110DD12 ,  5F110DD13 ,  5F110DD14 ,  5F110EE27 ,  5F110GG02 ,  5F110GG12 ,  5F110GG13 ,  5F110HJ13 ,  5F110HK03 ,  5F110HK05 ,  5F110HL07 ,  5F110HM14 ,  5F110HM15 ,  5F110NN42 ,  5F110NN44 ,  5F110NN45 ,  5F110NN46 ,  5F110NN54 ,  5F110NN55 ,  5F110NN72 ,  5F110NN73 ,  5F110QQ11