特許

J-GLOBAL ID：200903068649729157

薄膜印刷装置

発明者： 古田土 明夫 ,  篠原 昌彦 ,  中川 貴夫 ,  植田 豊一 ,  中西 清
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社 ,  ナカン株式会社
代理人 (1件)： 若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-027073
公開番号（公開出願番号）：特開平6-238877
出願日： 1993年02月17日
公開日（公表日）： 1994年08月30日
要約：

【要約】【目的】 被印刷体上にパーティクルの発生の無い薄膜を形成する薄膜印刷装置を提供する。【構成】 印刷液を液供給装置によって、アニロックスロール上に供給し、弾性を有するドクターロールによりアニロックスロール上に均一な印刷液膜を形成させ、この液膜の一部を所定のパターンを持つ刷版上に移動させた後、印刷テーブル上に固定された板状の被印刷体上に所望のパターンの印刷液膜を転写印刷する薄膜印刷装置において、アニロックスロールを、金属ロール表面をセラミックスで被覆後セラミック中に発生した空隙を樹脂で充填して実質的に空隙を無くした後、研磨しレーザ光線によって表面に所定のセルを彫刻後、さらに表面を研磨したアニロックスロールとした薄膜印刷装置。

請求項（抜粋）：

印刷液を液供給装置によって、アニロックスロール上に供給し、弾性を有するドクターロールによりアニロックスロール上に均一な印刷液膜を形成させ、この液膜の一部を所定のパターンを持つ刷版上に移動させた後、印刷テーブル上に固定された板状の被印刷体上に所望のパターンの印刷液膜を転写印刷する薄膜印刷装置において、アニロックスロールを、金属ロール表面をセラミックスで被覆後セラミック中に発生した空隙を樹脂で充填して実質的に空隙を無くした後、研磨しレーザ光線によって表面に所定のセルを彫刻後、さらに表面を研磨したアニロックスロールとした薄膜印刷装置。

IPC (2件)：

B41F 31/26 ,  B41F 17/14

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開平4-331019