特許
J-GLOBAL ID:200903068661914067

ダイオードの半田付け構造

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 三好 秀和 (外8名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-176350
公開番号(公開出願番号):特開平9-027675
出願日: 1995年07月12日
公開日(公表日): 1997年01月28日
要約:
【要約】【課題】 余剰半田のはみ出しを防止して、接合信頼性を向上する。【解決手段】 ダイオードチップ4を金属板(導体片)5に半田付けするに当たり、金属板5の半田付け面5aに格子状あるいは放射状の多数の細溝10を形成し、余剰半田が生じた場合、半田が毛細管現象によって細溝10に吸収されるようにした。
請求項(抜粋):
ダイオードチップ4を金属板5に半田付けした構造において、ダイオードチップ4と金属板5の半田付け面5aに多数の細溝10を形成したことを特徴とするダイオードの半田付け構造。
IPC (3件):
H05K 3/34 501 ,  H01R 4/02 ,  H01R 13/66
FI (3件):
H05K 3/34 501 A ,  H01R 4/02 Z ,  H01R 13/66

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