特許
J-GLOBAL ID：200903068670248657
ポジ型感放射線性樹脂組成物及びそれを用いるパターン形成法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-025870
公開番号（公開出願番号）：特開平7-219216
出願日： 1994年01月31日
公開日（公表日）： 1995年08月18日
要約：
【要約】【構成】放射線に曝された時に酸を生じる酸発生剤を含有する化学増幅形ポジ型感放射線性樹脂組成物に於いて、更にナフトキノンジアジド化合物を含有するポジ型感放射線性樹脂組成物を調整し、これを溶媒に溶解して感光液とする。この感光液をシリコンウェハー若しくはクロム蒸着板の様な基板上に塗布し、次に70〜130°Cの温度でベークする事により乾燥させた後、可視あるいは近紫外光を全面照射し、次いで遠紫外線或いは電子線等の放射線によりパターン露光或いは描画後更に70〜130°Cの温度で加熱し、次いでアルカリ水溶液で現像処理することにより転写パターンを得る。【効果】本発明のポジ型感放射線性樹脂組成物及びパターン形成方法は放射線に対する感度が高く、且つ放射線照射後加熱処理迄の安定性が高く又この組成物から得られた転写パターンは膨潤が無く解像度に優れ更にドライエッチング耐性及び耐熱性に優れている。
請求項（抜粋）：
放射線に曝された時に酸を生じる酸発生剤を含有する化学増幅系ポジ型感放射線性樹脂組成物に於いて、その組成物がナフトキノンジアジド化合物を含有することを特徴とするポジ型感放射線性樹脂組成物。
IPC (5件)：
G03F 7/004 503
, G03F 7/022
, G03F 7/039 501
, G03F 7/26
, H01L 21/027
H01L 21/30 502 R
, H01L 21/30 561
