特許
J-GLOBAL ID：200903068674169069
プラズマ処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
飯塚 雄二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-132861
公開番号（公開出願番号）：特開平10-308297
出願日： 1997年05月07日
公開日（公表日）： 1998年11月17日
要約：
【要約】【課題】 多極カスプ磁場によって試料の均一な処理を確保しつつ、真空容器内壁のクリーニング作業を効率的に行うこと。【解決手段】 真空容器(14)内に多極カスプ磁場を形成するように、真空容器(14)の外側に配置された電磁石(42)と、この電磁石(42)の通電を制御する制御装置(46)とを備えている。制御装置(46)は、プラズマ処理を行う場合に電磁石(42)への通電を行う。そして、真空容器(14)内壁をプラズマによって洗浄する際に電磁石(42)の通電を遮断する。
請求項（抜粋）：
真空容器内に配置された試料に対してプラズマを照射することにより、当該試料に対して所定の処理を施すプラズマ処理装置において、前記真空容器内に多極カスプ磁場を形成するように、前記真空容器の外側に配置された電磁石と;前記所定の処理を行う場合に前記電磁石への通電を行うとともに、前記真空容器内壁をプラズマによって洗浄する際に前記電磁石の通電を遮断する制御装置とを備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (3件)：
H05H 1/46
, H01L 21/205
, H01L 21/3065
H05H 1/46 B
, H01L 21/205
, H01L 21/302 N
