特許

J-GLOBAL ID：200903068679001085

レジスト除去装置およびレジスト除去方法

発明者： 河島 将人
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-344303
公開番号（公開出願番号）：特開2003-151959
出願日： 2001年11月09日
公開日（公表日）： 2003年05月23日
要約：

【要約】【課題】 イオン注入によりレジスト硬化層が形成されたレジストを、下地層にダメージを与えずに除去することが可能なレジスト除去装置およびレジスト除去方法を提供する。【解決手段】 真空チャンバ10と、真空チャンバ10内に設けられ、反転自在に回動可能なウエハ載置台21と、ウエハ載置台21の上方に設けられ、ウエハ載置台21のウエハ載置面21aにプラズマをダウンフローさせるプラズマ生成手段11とを備えたことを特徴とするレジスト除去装置およびこれを用いたレジスト除去方法である。

請求項（抜粋）：

真空チャンバと、前記真空チャンバ内に設けられ、反転自在に回動可能なウエハ載置台と、前記ウエハ載置台の上方に設けられ、前記ウエハ載置台のウエハ載置面にプラズマをダウンフローさせるプラズマ生成手段とを備えたことを特徴とするレジスト除去装置。

IPC (2件)：

H01L 21/3065 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/302 H ,  H01L 21/30 572 A

Fターム (8件)：

5F004AA09 ,  5F004AA14 ,  5F004BD01 ,  5F004CA05 ,  5F046MA11 ,  5F046MA12 ,  5F046MA17 ,  5F046MA18