特許

J-GLOBAL ID：200903068689464873

被着用マスク、その製造方法、エレクトロルミネッセンス表示装置及びその製造方法

発明者： 山田 努 ,  森本 佳宏 ,  米田 清
出願人/特許権者： 三洋電機株式会社
代理人 (1件)： 芝野 正雅
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-367123
公開番号（公開出願番号）：特開2001-185350
出願日： 1999年12月24日
公開日（公表日）： 2001年07月06日
要約：

【要約】【課題】 精度の良い被着用マスクを得るとともに、その被着用マスクを用いて有機材料を所定位置に精度良く被着したEL表示装置を提供することを目的とする。【解決手段】 四角形状のSi基板100上にSiO2膜101を形成し、その基板の周辺にSiO2膜101を残し、それをマスクとしてSi基板100をエッチャントKOHでエッチングしてマスク領域Mと段差部140を形成し、その後SiO2膜を除去して新たにマスク領域Mに開口部110を形成するパターンのレジストパターン104を形成して再度エッチングを行って被着用マスク100を形成する。そうすることにより、Si基板から成る精度の良い被着用マスクを得ることができる。

請求項（抜粋）：

被着物源と、該被着物源からの被着物を被着させる基体との間に配置される被着用マスクにおいて、前記被着用マスクが半導体基板から成ることを特徴とする被着用マスク。

IPC (7件)：

H05B 33/10 ,  C23C 14/04 ,  G09F 9/00 342 ,  G09F 9/30 365 ,  H01L 21/285 ,  H05B 33/12 ,  H05B 33/14

FI (7件)：

H05B 33/10 ,  C23C 14/04 A ,  G09F 9/00 342 Z ,  G09F 9/30 365 Z ,  H01L 21/285 M ,  H05B 33/12 B ,  H05B 33/14 A