特許

J-GLOBAL ID：200903068700406147

ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートおよびその製造方法

発明者： 石田 徳政 ,  高木 浩之 ,  上村 政宏
出願人/特許権者： 株式会社日本触媒
代理人 (1件)： 松本 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-170516
公開番号（公開出願番号）：特開2004-010603
出願日： 2002年06月11日
公開日（公表日）： 2004年01月15日
要約：

【課題】アルキレングリコールジ(メタ)アクリレートの含有量と酸成分の含有量とがともに少ない高品質のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートと、その新規な製造方法とを提供する。【解決手段】触媒の存在下で(メタ)アクリル酸とアルキレンオキシドとをバッチ反応させてヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートを製造する方法であって、両原料の仕込みについて、両原料の供給に要する時間のうち供給された原料の温度が40°C以上となる全供給時間の40%以上の供給時間の間、それまでに反応器に投入した(メタ)アクリル酸の合計量に対するアルキレンオキシドの合計量のモル比が1.0を超えるように調整する方法によって、不純物としてのアルキレングリコールジ(メタ)アクリレートの含有量が0.1重量%以下であり、かつ酸成分の含有量が0.1重量%以下であるヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートを得る。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

不純物としてのアルキレングリコールジ(メタ)アクリレートの含有量が0.1重量%以下であり、かつ、酸成分の含有量が0.1重量%以下である、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート。

IPC (2件)：

C07C67/26 ,  C07C69/54

FI (2件)：

C07C67/26 ,  C07C69/54 Z

Fターム (14件)：

4H006AA02 ,  4H006AC48 ,  4H006AD41 ,  4H006BA14 ,  4H006BA32 ,  4H006BA94 ,  4H006BC10 ,  4H006BC31 ,  4H006BD10 ,  4H006BN10 ,  4H006KA19 ,  4H039CA66 ,  4H039CD10 ,  4H039CD90

引用特許：

審査官引用 (2件)

• ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-045110   出願人：株式会社日本触媒
• ヒドロキシアルキルエステルの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-221251   出願人：株式会社日本触媒