特許
J-GLOBAL ID:200903068703629546

雑草生長抑制剤及びそれと主成分を共通とする雑草生長抑制材

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 三好 秀和 ,  岡崎 孝二
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-045235
公開番号(公開出願番号):特開2005-232111
出願日: 2004年02月20日
公開日(公表日): 2005年09月02日
要約:
【課題】スギ及びヒノキの植物生長抑制効果を活用し、天然資源のみによる環境に優しい雑草生長抑制剤(材)を提供する。【解決手段】スギ又は及びヒノキエキスを抽出した抽出液を基準として、これを散布液として用いる。また、樹皮又はその抽出液に土壌改良材及び結合剤を加え塊状又はシート状に成型したことを特徴とする雑草生長抑制材。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
2mmメッシュ以下に裁断又は粉砕したスギ又は及びヒノキの樹皮を、水か、0.01N〜0.1Nのアルカリ水溶液か、又はヘキサン、アセトン、エタノール、メタノールの内から選ばれた1種類以上の有機溶媒のいずれかに浸漬し、抽出し、他の薬剤は一切含めないことを特徴とする雑草生長抑制剤。
IPC (4件):
A01N65/00 ,  A01G13/00 ,  A01M21/00 ,  A01N25/34
FI (6件):
A01N65/00 A ,  A01G13/00 301Z ,  A01G13/00 302Z ,  A01M21/00 A ,  A01M21/00 Z ,  A01N25/34 A
Fターム (16件):
2B024DA03 ,  2B024DB10 ,  2B121AA19 ,  2B121BB28 ,  2B121CC15 ,  2B121EA25 ,  2B121EA26 ,  2B121FA12 ,  4H011AB03 ,  4H011BA01 ,  4H011BB22 ,  4H011BC20 ,  4H011DA07 ,  4H011DD04 ,  4H011DF06 ,  4H011DG06
引用特許:
出願人引用 (5件)
  • 土壌改良材
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平10-084870   出願人:株式会社スペースクリエイション, ライト技建株式会社, 三和建商株式会社, 住友造園開発株式会社, 共栄建設工業株式会社, 株式会社協立造園技研, 株式会社金原造園, 株式会社岩田緑化, 内藤繁章
  • マルチング材
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平10-253649   出願人:株式会社山都屋, タマタイ産業株式会社
  • 土壌改質材および土壌改質方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平11-208143   出願人:ほくしん株式会社, 溝邉正昭
全件表示

前のページに戻る