濾過装置及び洗浄方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：角田嘉宏 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-250916
公開番号（公開出願番号）：特開平11-090190
出願日： 1997年09月16日
公開日（公表日）： 1999年04月06日
要約：

【要約】【課題】効果的に濾過ブロックの小規模洗浄を物理化学的に行うことができ、大規模洗浄の必要回数を低減できる濾過装置及び洗浄方法を提供する。【解決手段】被処理液供給手段、被処理液タンクから濾過ブロックまでの流路を形成する送液経路、洗浄用薬液を薬液タンクから送液するための薬液供給手段、濾過ブロックから排水するためのドレン、及び濾過ブロックの二次側から膜モジュールの空気逆洗を行うための空気逆洗手段を含む濾過装置において、薬液供給手段によって洗浄用薬液が送液経路における被処理液供給手段の下流に送液されること、ならびに空気逆洗手段による膜モジュールの物理洗浄中に、前記洗浄用薬液による化学洗浄を並行して行うことができることを特徴とする濾過装置、ならびにかかる装置を用いた洗浄方法。

請求項（抜粋）：

濾過装置において、(a)被処理液を被処理液タンク1から膜モジュールを含む濾過ブロック3の一次側31に送るための被処理液供給手段11、(b)前記被処理液タンク1から濾過ブロック3までの流路を形成する送液経路21、(c)洗浄用薬液を、薬液タンク2から送液するための薬液供給手段12、(d)濾過ブロック3から排水するためのドレン25、及び(e)濾過ブロック3の二次側から膜モジュールの空気逆洗を行うための空気逆洗手段13を含む濾過装置であって、前記薬液供給手段12によって、洗浄用薬液が前記送液経路21における被処理液供給手段11の下流に送液されること、ならびに前記逆洗手段13による膜モジュールの物理洗浄中に、前記洗浄用薬液による化学洗浄を並行して行うことができるために、物理化学洗浄が成し遂げられることを特徴とする濾過装置。

IPC (2件)：

B01D 65/02 520 , B01D 65/06

FI (2件)：

B01D 65/02 520 , B01D 65/06

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開昭56-024006
特開平4-090831
ろ過膜の洗浄再生方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-121282 出願人：石垣機工株式会社

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