特許
J-GLOBAL ID：200903068739337932
耐候性ホトクロミック薄膜の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
工業技術院四国工業技術研究所長 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-174582
公開番号（公開出願番号）：特開2001-005125
出願日： 1999年06月21日
公開日（公表日）： 2001年01月12日
要約：
【要約】【課題】 有機ホトクロミック化合物がもつ本来の機能をそこなうことなく、簡単な手段で光機能性を示し、かつ光透過性の良好な耐候性ホトクロミック薄膜を提供する。【解決手段】 層間支柱を有する層状粘土薄膜とその層間中に導入された有機ホトクロミック化合物との複合体からなる耐候性ホトクロミック薄膜であり、超臨界状態の二酸化炭素中で層間支柱を有する層状粘土薄膜と有機ホトクロミック化合物とを接触させ、次いで二酸化炭素を揮発、除去して製造する。
請求項（抜粋）：
層間支柱を有する層状粘土薄膜とその層間中に導入された有機ホトクロミック化合物との複合体からなる耐候性ホトクロミック薄膜。
IPC (2件)：
G03C 1/00 531
, C09K 9/02
G03C 1/00 531
, C09K 9/02 B
