特許
J-GLOBAL ID：200903068750467333
真空チャンバへの赤外線導入構造
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井出 直孝 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-320627
公開番号（公開出願番号）：特開平6-011486
出願日： 1991年12月04日
公開日（公表日）： 1994年01月21日
要約：
【要約】【目的】 高い真空環境を維持する真空チャンバ内に試料を加熱するための赤外線をガラス棒により導入する構造の改良である。【構成】 ガラス棒に二重のOリングを設け、この二つのOリングの間の空間を真空チャンバの真空系とは別の真空ポンプにより真空に維持し、さらにこの二重のOリングによるシールを冷却する。【効果】 赤外線の漏洩により温度が変化することがあっても完全なシールを施す。
請求項（抜粋）：
真空チャンバの外に配置された赤外線発生装置と、その赤外線発生装置の出力赤外線をその真空チャンバ内に導入するガラス棒とを備えた真空チャンバへの赤外線導入構造において、前記ガラス棒に密接し前記真空チャンバ内の真空をシールする第一のOリングと、前記ガラス棒に密接し前記第一のOリングと間隔をおいて設けられ、大気をシールする第二のOリングと、前記二つのOリングに共に接しこの二つのOリングの間で前記ガラス棒の外を被う筒体と、この筒体、前記二つのOリングおよび前記ガラス棒の間に形成される空間を真空に維持する前記真空チャンバの真空系とは別系の真空手段とを備えたことを特徴とする真空チャンバへの赤外線導入構造。
IPC (3件)：
G01N 27/62
, G01N 25/00
, H01L 21/203
