特許
J-GLOBAL ID：200903068756451960
レーザ装置及びレーザシステム
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
春日 讓
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-134148
公開番号（公開出願番号）：特開平8-008479
出願日： 1994年06月16日
公開日（公表日）： 1996年01月12日
要約：
【要約】【目的】レーザ光を大きく減衰させず簡易構造で長距離伝播後にレーザ光の断面強度分布の十分な均一化を図れるレーザ装置及びレーザシステムを提供する。【構成】レーザ装置100は、断面強度分布一様のレーザ光2aを発生するレーザ発生装置1と、透過鏡3からのレーザ光2bが入射されて高周波成分の発生が抑制される像転送光学系4とを有し、また外部の所定の照射位置(透過鏡3から距離zの位置)8にレーザを照射される物質が配置される。像転送光学系4は、2つの凸レンズ5,7とレーザ光2b,2cの焦点位置に配置されたピンホール6とを有する。透過鏡3の透過率分布は、レーザ光2aの中心軸から径方向距離rが0≦r≦r<SB>1</SB>の第1の領域では100%、その外側で径方向距離rがr<SB>1</SB><r≦r<SB>2</SB>の第2の領域では25%、さらにその外側で径方向距離rがr<SB>2</SB><rの第3の領域では0%である。またr<SB>2</SB>=√(r<SB>1</SB><SP>2</SP>+λz)の関係にある。
請求項（抜粋）：
所定の照射位置に配置された物質にレーザ光を照射するレーザ装置において、断面強度分布が一様であるレーザ光を発生する少なくとも1つのレーザ発生手段と、前記1つのレーザ発生手段から発生したレーザ光のうち前記照射位置に対するフレネル数がN1である第1のレーザ光成分を透過させる第1のレーザ透過手段と前記1つのレーザ発生手段から発生したレーザ光のうちnを自然数としたときに前記照射位置に対するフレネル数N2がN1+(2n-3/2)≦N2≦N1+(2n-1/2)となる第2のレーザ光成分を透過させる第2のレーザ透過手段とを備えたレーザ透過手段と、透過した前記第1のレーザ光成分と前記第2のレーザ光成分とを前記第1のレーザ光成分と前記第2のレーザ光成分との強度の比が3:5〜9:1になるように合成して第1の合成レーザ光を形成するレーザ合成手段と、前記第1の合成レーザ光が入射されて高周波成分の発生が抑制されるフィルタ手段とを有することを特徴とするレーザ装置。
IPC (2件)：
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