特許

J-GLOBAL ID：200903068761483349

真空蒸着用マスクおよび真空蒸着装置および真空蒸着方法

発明者： 森山 孝志
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (2件)： 西山 恵三 ,  内尾 裕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-124088
公開番号（公開出願番号）：特開2005-310472
出願日： 2004年04月20日
公開日（公表日）： 2005年11月04日
要約：

【課題】 有機ELディスプレイのパターニング工程において、一定のアライメント精度を確保しつつ、蒸着マスクの歪みや撓みの影響を抑えて、蒸着マスクと基板との密着性を向上させる。【解決手段】 磁性材料で形成された薄板上の真空蒸着マスクであって、マスクホルダーへの保持領域、開口部を有する成膜領域、マスクの歪みを緩和する領域からなることを特徴とする、真空蒸着用マスク及び真空成膜装置。【選択図】 図5

請求項（抜粋）：

磁性材料で形成された薄板状の真空蒸着用マスクであって、 マスクホルダーへの保持領域と開口部を有する成膜領域とマスクの歪みを緩和する領域から成ることを特徴とする、真空蒸着用マスク。

IPC (3件)：

H05B33/10 ,  C23C14/04 ,  H05B33/14

FI (3件)：

H05B33/10 ,  C23C14/04 A ,  H05B33/14 A

Fターム (13件)：

3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA00 ,  3K007FA01 ,  4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029BA62 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029EA02 ,  4K029HA01 ,  4K029HA02 ,  4K029HA03

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 公開特許2002-105622号公報 図1