特許

J-GLOBAL ID：200903068782614540

化学増幅ポジ型レジスト材料

発明者： 大澤 洋一 ,  渡辺 淳 ,  武田 隆信 ,  関 明寛
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 小島 隆司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-057719
公開番号（公開出願番号）：特開2001-324813
出願日： 2001年03月02日
公開日（公表日）： 2001年11月22日
要約：

【要約】【解決手段】 (A)光酸発生剤(B)下記一般式(1)で示される置換基を有し、酸の作用でアルカリ現像液に対する溶解性が変化する樹脂を含む化学増幅ポジ型レジスト材料。 Ph(CH2)nOCH(CH2CH3)- (1) (式中、Phはフェニル基を示し、nは1又は2である。)【効果】 本発明の化学増幅ポジ型レジスト材料は、一般式(1)で示される置換基を有することにより、解像性に優れ、PEDが長時間にわたる場合にも線幅変動、形状劣化が少なく、塗布後、現像後、剥離後の異物が少なく、現像後のパターンプロファイル形状に優れる。更に、焦点がずれた場合にも矩形性を保ちパターンプロファイルの膜減りが少なく焦点余裕度に優れ、微細加工に適し、種々のリソグラフィー、特に遠紫外線リソグラフィーにおいて大いに威力を発揮する。

請求項（抜粋）：

(A)光酸発生剤(B)下記一般式(1)で示される置換基を有し、酸の作用でアルカリ現像液に対する溶解性が変化する樹脂を含む化学増幅ポジ型レジスト材料。 Ph(CH2)nOCH(CH2CH3)- (1) (式中、Phはフェニル基を示し、nは1又は2である。)

IPC (5件)：

G03F 7/039 601 ,  C08K 5/00 ,  C08L 25/18 ,  C08L 33/02 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 7/039 601 ,  C08K 5/00 ,  C08L 25/18 ,  C08L 33/02 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (26件)：

2H025AA00 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J002BC121 ,  4J002BC131 ,  4J002BG011 ,  4J002EB006 ,  4J002EQ016 ,  4J002EV246 ,  4J002EV266 ,  4J002EV296 ,  4J002FD050 ,  4J002FD310 ,  4J002GP03